UV1011.1-1.1X

       传统的光刻技术需要光刻掩模板，不同的产品需要不同的光刻掩模板。为了能够快速加工出不同形状的产品，无掩膜光刻机被开发出来，通过无掩膜光刻机，用户可以在计算机上设计光刻图形进行加工，不需要制造掩膜板，大大节约了加工时间及成本。无掩膜光刻机使用TI的DMD产生虚拟掩膜图像，DMD无掩膜光刻的光刻投影镜头是影响光刻精度的关键因素。